

詳細介紹
XRD原位超高溫熱臺是一款專為X射線衍射儀設計的高精度變溫附件,適用于粉末或片狀樣品在變溫條件下的結構分析,可依據用戶現有設備型號(如布魯克、賽默飛、理學等主流X射線衍射儀)定制適配樣品架。其作為一款專為X射線衍射分析開發的原位裝置,能夠精確調控溫度、力學等多物理場耦合條件,實時監測材料在復雜環境下的結構演變,具備優異的適配性與擴展性,滿足多樣化科研需求。
· 溫控范圍:RT~1200℃
· 溫度精度:±0.5℃
· 衍射角0~164°(標準樣品支架)
· 氣密腔室設計(通保護氣氛)
· 可升級真空腔室(10-3mbar)
· Z方向手動位移臺
· 上位機軟件控制
型號 | HX1200 | |
溫控模塊 | 冷熱方式 | 電阻加熱 |
溫控范圍 | RT~1200℃* | |
溫度穩定性 | ±0.5℃ | |
溫度分辨率 | 0.1℃ | |
升降溫速率 | 0~50℃/min(可定點 / 程序段控溫) | |
溫控方式 | PID | |
溫度傳感器 | 熱電偶 | |
光學特性 | 光路 | 反射光路 |
X射線透射膜 | Kapton膜 * | |
結構特性 | 樣品臺尺寸 | 20×20mm * |
樣品臺材質 | 陶瓷 | |
外形尺寸 | 84×100×81.5mm * | |
腔室 | 氣密 | |
外殼冷卻 | 循環水 | |
重量 | 1.1kg*(參考重量,以實際重量為主) | |
基本配置 | XRD原位熱臺x1、溫度控制器x1、循環水系統x1(高溫配置)、溫控軟件x1、連接管路若干 | |
其他配置 | 電腦主機/安裝支架/真空系統/循環水系統/定制溫控軟件 | |
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