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三溫晶圓盤

簡要描述：晶圓加熱盤（Wafer Heating Plate），也稱為加熱臺或加熱器，適用領域：半導體、芯片、OLED光學變溫、晶圓測試等。它主要用于在加工晶圓時，對晶圓進行精確的溫度控制，以確保制造過程中的穩(wěn)定性和高質(zhì)量，可用于各類探針臺，溫控同時進行電學測試。

  • 產(chǎn)品型號：
  • 更新時間：2026-05-19
  • 訪問次數(shù)：94
  • 產(chǎn)品地址：蘇州市吳江區(qū)江陵街道云創(chuàng)路233號

詳細介紹

產(chǎn)品簡介：

晶圓加熱盤（Wafer Heating Plate），也稱為加熱臺或加熱器，適用領域：半導體、芯片、OLED光學變溫、晶圓測試等。它主要用于在加工晶圓時，對晶圓進行精確的溫度控制，以確保制造過程中的穩(wěn)定性和高質(zhì)量，可用于各類探針臺，溫控同時進行電學測試。

產(chǎn)品參數(shù)：

產(chǎn)品名稱

晶圓三溫系統(tǒng)

冷熱方式

電阻加熱，液氮制冷

溫度范圍

-80~200℃

溫度穩(wěn)定性

±0.5℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度傳感器

熱電偶

溫控方式

PID

腔室

真空/氣密

腔體內(nèi)部及管道無凝結(jié)水、霧

腔體表面常溫

注：所述溫度為陶瓷盤表面溫度



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